西安鍍硬鉻廠家對的小編為大家分享一下鍍鉻液的種類和特性，根據鍍鉻液的組成和性能不同，可將鍍鉻液分為如下幾類。

(一)普通鍍鉻溶液

這是應用量大、面廣的一種鍍液，基本組分是鉻酐和硫酸，按鉻酐濃度可分為低、中、高濃度三種。

低濃度通常系指鉻酐含量為120g/L以下的鍍液。具有減少污染、降低成本、　電流效率比較高(18～20)、鍍層光亮度好、光亮電流密度范圍寬等優點。缺點是需槽電壓較高，鍍液覆蓋能力較差，適合于零件形狀較簡單的場合。

中濃度通常系指鉻酐含量為180～250g/L的鍍液。鉻酐250g/L，硫酸根2.5g/L的鍍液稱為標準鍍鉻液，多用于鍍硬鉻。在這類鍍液中加入鍍鉻添加劑，特別是混合稀土金屬鹽添加劑，鍍液性能則有很大改善：

①可將鉻酐濃度降低到150～180g/L以內，鍍液的覆蓋能力明顯提高，超過高濃度液;

②可降低析鉻的臨界電流密度值，可采用較低電流密度(如8～10A/dm2)，而電流效率卻能達到20以上，槽電壓低于10V，故有明顯的節電效果;

③可實現常溫電鍍，在15～50℃之間均可施鍍，有利于節約能源，提高工效。綜合經濟和環境效益好。這是現代電鍍鉻工藝的發展方向。

高濃度系指鉻酐濃度為300～400g/L的鍍液。具有較高分散能力和覆蓋能力，主要用于裝飾性鍍鉻。這種鍍液帶出損失多、對環境污染較嚴重。電流效率低(8～13)。隨著稀土等鍍鉻添加劑的開發和應用，這類鍍液已逐漸縮減。

(二)復合鍍鉻液

以硫酸和氟硅酸作催化劑的鍍鉻液。氟硅酸的添加，使鍍液的電流效率、覆蓋能力和光亮范圍均比普通鍍鉻液有所改善，如陰極的電流效率可達到20%以上。然而，氟硅酸對陽極和陰極零件鍍不上鉻的部位及鍍槽的鉛襯均有較強的腐蝕作用，必須采取一定的防護措施，其襯里和陽極.好采用鉛一錫合金。此鍍液主要用于滾鍍鉻。

(三)自動調節鍍鉻液

以硫酸鍶和氟硅酸鉀為催化劑的鍍鉻液。在一定溫度及一定濃度的鉻酸溶液中，硫酸鍶和氟硅酸鉀各自存在著沉淀溶解平衡，并分別有一溶度積常數Ksp，即當溶液中[S042-]或[SiF62-]濃度增大時，相應的離子濃度乘積將大于溶度積常數，過量的S042-或SiF62-便生成SrS04或K2SiF6沉淀而析出;相反，當溶液中[S042-]或[ SiF62-]濃度不足時，槽內的SrS04或K2SiF6沉淀溶解，直至相應的離子濃度乘積等于其溶度積時為止。所以，當鍍液的溫度和鉻酐的濃度一定時，鍍液中[S042-]或[SiF62-]濃度可通過溶解沉淀平衡而自動的調節，并不隨電鍍過程的持續而變化。這類鍍液具有電流效率高(270A)，允許電流密度范圍大(高達80～100A/dm2)，鍍液的分散能力和覆蓋能力好，沉積速度快(50/-m/h)等優點，故又稱“高速自動調節鍍鉻”。但鍍液的腐蝕性強。

(四)快速鍍鉻液在普通鍍鉻液基礎上，加入硼酸和氧化鎂，允許使用較高的電流密度，從而提高了沉積速度，所得鍍層的內應力小，與基體的結合力好。

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